臺積電（2330）將于2007年9月正式投入45奈米制程量產！這是臺積電以自行創發、與設備商共同開發的浸潤式微顯影設備投產的制程技術，也距離創發人、臺積電處長林本堅提出這構想足足將近5年之久。從夢想初生到美夢成真，除了印證半導體界的共同努力之外，林本堅的執著及他對科技有如宗教般堅定不移的信仰支撐，是一大功臣。
       臺積電采用193波長曝光設備，量產45奈米制程，這套設備之所以引人矚目，在于不同以往的“干式”制程，而是“濕式”機臺。過去干式曝光顯影是在無塵室中，以空氣為媒介進行，透過光罩在晶圓上顯影；而浸潤式微影則是以水為透鏡，在晶圓與光源間注入純水，波長光束透過“水”為中介，會縮短成更短波長，得以刻出更精密晶片。就是這項發明，讓半導體的摩爾定律得以朝45奈米制程之后沿續。
       時間回溯到2002年，林本堅受邀參加一場國際光電學會技術研討會，會中他發表這項發現，語驚四座，因為當時的半導體設備商多研發焦點放在如何延續干式機臺的生命，并已耗費數十億美元進行開發。林本堅的理論無疑是在業界投出一顆炸彈，但經過他無數研討會努力奔走、尋找與設備商合作，，臺積電在2004年與ASML共同完成開發全球臺浸潤式微影機臺，讓業界在震驚之余也刮目相看。
       如今，浸潤式顯影不但是英特爾（Intel）等半導體龍頭、設備商所認定的跨入45奈米制程之后的解決方案，也已正式納入國際半導體藍圖架構成為主流。回顧過去林本堅提出的“一滴水”理論，過了5年，臺積電終于將在2007年下半正式用來量產。林本堅的“微物”論改變的半導體技術的進展，也改變由晶片所驅動的世界，現在的他，則投入22奈米制程之后設備研究，不同的是，這次靈感來自“天空”。
       林本堅說，22奈米制程之后多重直接式電子束（E-Beam Direct Write）將是解決方案，他說，航太工程的演進給了他許多靈感，他巧妙地比喻，現在許多設備商投入的EUV設備就像是太空梭一樣成本太昂貴，又不適合載客，E-Beam就是向不需要飛行跑道的直升機，可以直接空降在晶圓上，靈巧又符合成本效益。看來“一沙一世界、一奈米一宇宙”這句話用在他身上再洽當也不過了。