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      臺(tái)積電浸潤式顯影功臣 林本堅(jiān):22奈米制程從天空找靈感

      更新時(shí)間: 2007-04-11 13:23:17來源: 粵嵌教育瀏覽量:693

             臺(tái)積電(2330)將于2007年9月正式投入45奈米制程量產(chǎn)!這是臺(tái)積電以自行創(chuàng)發(fā)、與設(shè)備商共同開發(fā)的浸潤式微顯影設(shè)備投產(chǎn)的制程技術(shù),也距離創(chuàng)發(fā)人、臺(tái)積電處長林本堅(jiān)提出這構(gòu)想足足將近5年之久。從夢想初生到美夢成真,除了印證半導(dǎo)體界的共同努力之外,林本堅(jiān)的執(zhí)著及他對(duì)科技有如宗教般堅(jiān)定不移的信仰支撐,是一大功臣。
             臺(tái)積電采用193波長曝光設(shè)備,量產(chǎn)45奈米制程,這套設(shè)備之所以引人矚目,在于不同以往的“干式”制程,而是“濕式”機(jī)臺(tái)。過去干式曝光顯影是在無塵室中,以空氣為媒介進(jìn)行,透過光罩在晶圓上顯影;而浸潤式微影則是以水為透鏡,在晶圓與光源間注入純水,波長光束透過“水”為中介,會(huì)縮短成更短波長,得以刻出更精密晶片。就是這項(xiàng)發(fā)明,讓半導(dǎo)體的摩爾定律得以朝45奈米制程之后沿續(xù)。
             時(shí)間回溯到2002年,林本堅(jiān)受邀參加一場國際光電學(xué)會(huì)技術(shù)研討會(huì),會(huì)中他發(fā)表這項(xiàng)發(fā)現(xiàn),語驚四座,因?yàn)楫?dāng)時(shí)的半導(dǎo)體設(shè)備商多研發(fā)焦點(diǎn)放在如何延續(xù)干式機(jī)臺(tái)的生命,并已耗費(fèi)數(shù)十億美元進(jìn)行開發(fā)。林本堅(jiān)的理論無疑是在業(yè)界投出一顆炸彈,但經(jīng)過他無數(shù)研討會(huì)努力奔走、尋找與設(shè)備商合作,,臺(tái)積電在2004年與ASML共同完成開發(fā)全球臺(tái)浸潤式微影機(jī)臺(tái),讓業(yè)界在震驚之余也刮目相看。
             如今,浸潤式顯影不但是英特爾(Intel)等半導(dǎo)體龍頭、設(shè)備商所認(rèn)定的跨入45奈米制程之后的解決方案,也已正式納入國際半導(dǎo)體藍(lán)圖架構(gòu)成為主流。回顧過去林本堅(jiān)提出的“一滴水”理論,過了5年,臺(tái)積電終于將在2007年下半正式用來量產(chǎn)。林本堅(jiān)的“微物”論改變的半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)展,也改變由晶片所驅(qū)動(dòng)的世界,現(xiàn)在的他,則投入22奈米制程之后設(shè)備研究,不同的是,這次靈感來自“天空”。
             林本堅(jiān)說,22奈米制程之后多重直接式電子束(E-Beam Direct Write)將是解決方案,他說,航太工程的演進(jìn)給了他許多靈感,他巧妙地比喻,現(xiàn)在許多設(shè)備商投入的EUV設(shè)備就像是太空梭一樣成本太昂貴,又不適合載客,E-Beam就是向不需要飛行跑道的直升機(jī),可以直接空降在晶圓上,靈巧又符合成本效益。看來“一沙一世界、一奈米一宇宙”這句話用在他身上再洽當(dāng)也不過了。

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