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      中芯國際欲興建300mm新廠,戰(zhàn)略調整將向IDM模式轉型?

      更新時間: 2006-05-18 14:28:49來源: 粵嵌教育瀏覽量:612

             分析師日前預計,中國晶圓代工廠商中芯國際計劃新興一家300毫米工廠,而且可能進行戰(zhàn)略調整,轉向IDM模式。 
             市場調研公司Semico Research Corp.指出該公司在北京新建了一家300毫米工廠,而且正在上海興建另一家300毫米工廠。中芯國際一直在提升其在北京的300毫米工廠的產(chǎn)量,同時它在上海擁有幾家8英寸工廠。 
             Semico公司的分析師Joanne Itow表示,中芯國際計劃在上海興建名為“Fab 8”的300毫米工廠,用于生產(chǎn)邏輯芯片。Itow表示,該廠計劃采用90和65納米工藝。她認為該工廠可能在2007年投產(chǎn)。同時,分析師想知道中芯國際是否正在從純粹的晶圓代工模式轉向IDM模式。 
             中芯國際在1月份決定在Saifun Semiconductors Ltd.的幫助下進入存儲卡市場。中芯國際擴展了許可范圍,以利用Saifun公司的氧氮化物閃存技術,使其能夠開發(fā)和生產(chǎn)存儲卡。 
             Semico表示,“NAND閃存開發(fā)工作在按計劃進行,將在6月提供工程樣品,已在季度成功地生產(chǎn)出2-Gbit芯片。中芯國際計劃在今年第四季度開始商業(yè)生產(chǎn)。此舉暗示中芯國際將從純粹的晶圓代工廠商變成IDM。” 
             Itow則認為他們仍想充當純粹的晶圓代工廠商,并正在試圖確定在閃存業(yè)務方面采取什么策略。她指出,中芯國際正在研究幾項可能的方案,可能分拆閃存業(yè)務、建立伙伴關系,或者把該業(yè)務出售給一家模塊制造商。

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