美國(guó)明導(dǎo)國(guó)際（MentorGraphics）宣布，該公司的DFM工具“CalibreLFD”已經(jīng)能夠用于富士通65nm工藝芯片設(shè)計(jì)。CalibreLFD是一種EDA工具，可用于尋找在實(shí)施曝光中可能會(huì)出現(xiàn)問(wèn)題的掩膜設(shè)計(jì)。
       通過(guò)富士通與明導(dǎo)的合作，不僅公司內(nèi)部的芯片開(kāi)發(fā)人員，連硅代工業(yè)務(wù)的用戶也能夠開(kāi)始使用CalibreLFD。具體來(lái)說(shuō)，提供的是面向65nm工藝的CalibreLFD設(shè)計(jì)工具包。在發(fā)布資料中介紹了富士通市野尚治（技術(shù)開(kāi)發(fā)部電子元件業(yè)務(wù)本部總經(jīng)理）的發(fā)言。